Przejdź do głównej treści

Widok zawartości stron Widok zawartości stron

Pomiń baner

Widok zawartości stron Widok zawartości stron

21 września - Piotr Ciochoń

W dniu 21 września 2020 roku o godz. 11.00 odbędzie się publiczna obrona pracy doktorskiej Pana magistra PIOTRA CIOCHONIA                   

Tytuł rozprawy: Graphitization of SiC surfaces in Si flux

Promotor: prof. dr hab. Jacek Kołodziej  

Recenzenci: prof. dr hab. Antoni Ciszewski - Uniwersytet Wrocławski, dr hab. Paweł Kowalczyk, prof. UŁ - Uniwersytet Łódzki

Rozprawa wyłożona jest do wglądu w Archiwum Uniwersytetu Jagiellońskiego przy Al. Mickiewicza 22 w Krakowie. Wersja elektroniczna znajduje się na stronie www.fais.uj.edu.pl. Obrona odbędzie się w trybie zdalnym przy pomocy aplikacji Microsoft Teams. Informacje o instalacji oraz użytkowaniu Microsoft Teams można znaleźć na stronie internetowej https://dis.uj.edu.pl/ .

Osoby chcące uczestniczyć w publicznej obronie i posiadające konto pocztowe w domenie "uj.edu.pl" (a tym samym dostęp do organizacji UJ w Microsoft Teams) mogą dołączyć do stworzonego w tym celu zespołu  UJ-WFAIS: mgr Piotr Ciochoń - publiczna obrona pracy doktorskiej przy pomocy kodu dostępu: jcek4u9

W tym celu należy w aplikacji Microsoft Teams wybrać zakładkę "Zespoły" a następnie "Wszystkie zespoły" -> "Dołącz do zespołu lub utwórz nowy" -> "Dołącz do zespołu wpisując kod" i podać powyższy kod dostępu.

W razie problemów z dołączeniem do zespołu, prosimy o kontakt pod adresem: nikodem.frodyma@uj.edu.pl.

Osoby nieposiadające konta pocztowego w domenie "uj.edu.pl" i chcące dołączyć do obrony są proszone o wysłanie wiadomości na adres: nikodem.frodyma@uj.edu.pl w celu uzyskania dostępu najpóźniej do dnia 21 września br. do godz. 9. 00. Po uzyskaniu dostępu do zespołu "UJ-WFAIS: mgr Piotr Ciochoń - publiczna obrona pracy doktorskiej" prosimy wejść na kanał "Ogólny", na którym odbędzie się obrona. Obsługa techniczna będzie dostępna na tym kanale na godzinę przed rozpoczęciem obrony, aby umożliwić sprawdzenie stabilności połączenia.